Химическое осаждение из газовой фазы

Химическое осаждение из газовой (паровой) фазы (англ. Chemical vapor deposition) - получение твердых веществ с помощью химических реакций, в которых участвуют газообразные реагенты, а также рост тонких твердых пленок на подложке в результате термохимических реакций в газовой фазе. Пример: получение твердой пленки Si3N4 на поверхности Si по реакции взаимодействия двух газов SiH4 и NH3. Используют для получения текстурированных покрытий, монокристаллов, эпитаксиальных и монокристаллических пленок (например, в планарной технологии), нитевидных монокристаллов (вискеров), барьерных слоев (предотвращающих разрушение покрытий на соплах ракет), при изготовлении различных изделий сложной конфигурации и др.

Тезаурус

Химическое осаждение из газовой фазы (Chemical vapor deposition)

Тематический раздел (поле):  Функциональные наноматериалы; Композиционные материалы; Конструкционные материалы; Наноэлектроника; Наноинженерия; Метрология и стандартизация; Нанотехнологии для космической техники; Нанотехнологии для безопасности

Функциональный разряд:  Действие (операция)

Аскрипторы:  Осаждение, электродуговое осаждение из газовой фазы, ионное осаждение, лазерное химическое осаждение из газовой фазы, локализованное электро-химическое осаждение

Отношения иерархические (род-вид):  Химическое осаждение из газовой фазы → Осаждение → Методы нанесения элементов наноструктур и наноматериалов → Получение, диагностика и сертификация наноразмерных систем → Нанотехнологии

Отношения ассоциативные:  Химическое осаждение из газовой фазы ~ Пар, Газ, Химическая реакция, Реагент, Монокристалл, Вискер, Термохимическая реакция, Подложка

Литература по теме:

1. Schropp, R.E.I.; B. Stannowski, A.M. Brockhoff, P.A.T.T. van Veenendaal and J.K. Rath. "Hot wire CVD of heterogeneous and polycrystalline silicon semiconducting thin films for application in thin film transistors and solar cells" (PDF). Materials Physics and Mechanics: 73–82
2. Jaeger, Richard C. (2002). "Film Deposition". Introduction to Microelectronic Fabrication. Upper Saddle River: Prentice Hall. ISBN 0-201-44494-7
3. Smith, Donald (1995). Thin-Film Deposition: Principles and Practice. MacGraw-Hill
4. Dobkin and Zuraw (2003). Principles of Chemical Vapor Deposition. Kluwer
5. ISO 3529/1-1981 Vacuum Technology - Vocabulary - part 1: General