Электронно-лучевая литография

Электронно-лучевая литография (англ. Electron beam lithography) – метод изготовления субмикронных и наноразмерных топологических элементов посредством экспонирования электрически чувствительных поверхностей электронным лучом. Метод схож с фотолитографией, но использует электроны вместо фотонов. Поскольку длина волны электрона гораздо меньше, чем у фотона, дифракция не ограничивает разрешение.
Электронный пучок сканирует поверхность электронного резиста, повторяя шаблон, заложенный в управляющий компьютер, и позволяя достигать разрешения 1 нм благодаря более короткой длине волны электронов по сравнению со светом. Электронная литография используется для создания масок для фотолитографии, в производстве штучных компонентов, где требуется нанометровое разрешение, в промышленности и научной деятельности. Системы электронной литографии для коммерческого применения очень дорогостоящие (> $4 млн.). Для научных исследований обычно используют электронный микроскоп, переделанный в систему электронной литографии, используя относительно дешевые аксессуары (< $100 тыс.). Такие переделанные системы создают ширину линии ~20 нм с 1990-х годов, в то время как специализированное оборудование позволят получать разрешение меньше 10 нм вплоть до 1 нм. Электронно-лучевая литография имеет более высокую стоимость, чем фотолитография, однако получаемое разрешение выше и при этом не требуется фотошаблона. Такую литографию используют для создания фотолитографических масок.

Тезаурус

Электронно-лучевая литография (Electron beam lithography)

Тематический раздел (поле):  Наноэлектроника; Наноинженерия; Нанотехнологии ТЭК; Нанотехнологии для безопасности; Метрология и стандартизация; Конструкционные наноматериалы; Функциональные наноматериалы; Композиционные наноматериалы

Функциональный разряд:  Действие (операция)

Аскрипторы:  Литография, рентгенолитография, фотолитография, иммерсионная литография

Отношения иерархические (род-вид):  Электронно-лучевая литография → Литография → Локальная модификация наноструктур → Получение, диагностика и сертификация наноразмерных систем → Нанотехнологии

Отношения ассоциативные:  Электронно-лучевая литография ~ Электрон, Фотолитографические маски, Электронный резист, Электронный микроскоп, Микроизделие, Нанотехнология

Литература по теме:

1. McCord, M. A.; M. J. Rooks (2000). "2". SPIE Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication
2. J. A. Liddle et al. (2003). "Resist Requirements and Limitations for Nanoscale Electron-Beam Patterning". Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 739 (19): 19–30
3. H. Yang et al., Proceedings of the 1st IEEE Intl. Conf. on Nano/Micro Engineered and Molecular Systems, pp. 391-394 (2006)