Ионное осаждение

Ионное осаждение (англ. Ion plating) – ионное нанесение покрытия (слоя) – это осаждение из газовой фазы, при котором газообразные частицы ионизированы или возбуждены в плазме. Осаждение веществ осуществляется на подложку. Исходную кинетическую энергию газообразные частицы приобретают вследствие прохождения через электрическое поле. Эта комбинированная технология объединяет традиционное вакуумное осаждение материалов и более современную плазменную технологию. В традиционном процессе вакуумного осаждения большинство частиц, которые достигают подложки, нейтральны. В данном методе частицы являются: ионами; возбужденными частицами; радикалами с внутренней кинетической энергией. Поэтому по сравнению с вакуумным осаждением структура и свойства осажденных описываемым методом пленок являются намного более сложными и обладают более высоким качеством. Так как скорость осаждения пленок достаточно высока и пленки обладают высоким качеством, этот метод активно используется вместо нанесения покрытия методом традиционного вакуумного осаждения, особенно при формировании пленок из непроводящих материалов.

Тезаурус

Ионное осаждение (Ion plating)

Тематический раздел (поле):  Функциональные наноматериалы с особыми физическими свойствами и высокочистые вещества; Композиционные материалы; Конструкционные материалы; Наноэлектроника; Наноинженерия; Метрология и стандартизация; Нанотехнологии для космической техники; Нанотехнологии для безопасности

Функциональный разряд:  Действие (операция)

Аскрипторы:  Химическое осаждение из газовой фазы, электродуговое осаждение из газовой фазы, лазерное химическое осаждение из газовой фазы, локализованное электро-химическое осаждение

Отношения иерархические (род-вид):  Ионное осаждение → Осаждение из газовой фазы → Осаждение → Методы нанесения элементов наноструктур и наноматериалов → Получение, диагностика и сертификация наноразмерных систем → Нанотехнологии

Отношения ассоциативные:  Ионное осаждение ~ Ион, Плазма, Электрическое поле, Пар, Газ, Монокристалл, Вискер, Термохимическая реакция, Подложка, Эпитаксиальные пленки, Диэлектрик

Литература по теме:

1. Anders, Andre "Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition" (2000) Wiley-Interscience ISBN 0-4712-4698-0
2. Bach, Hans and Dieter Krause "Thin Films on Glass" (2003) Springer-Verlag ISBN 3-540-58597-4
3. Bunshah, Roitan F (editor). "Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings", second edition (1994)
4. Glaser, Hans Joachim "Large Area Glass Coating" (2000) Von Ardenne Anlagentechnik GmbH ISBN 3-00-004953-3
5. Glocker,and I. Shah (editors), "Handbook of Thin Film Process Technology", Vol.1&2 (2002) Institute of Physics ISBN 0 7503 0833 8 (2 vol. set)
6. Mahan, John E. "Physical Vapor Deposition of Thin Films" (2000) John Wiley & Sons ISBN 0-471-33001-9
7. Mattox, Donald M. and Vivivenne Harwood Mattox (editors) "50 Years of Vacuum Coating Technology and the Growth of the Society of Vacuum Coaters" (2007), Society of Vacuum Coaters ISBN 978-1-878068-27-9