|
Литография (англ. Lithography) – технология переноса рисунка с шаблона на поверхность пластины с помощью светового излучения (фотолитография), потока электронов (электронно-лучевая литография) или рентгеновского излучения (рентгенолитография). На первой стадии процесса изготовления микро- и наноизделий после моделирования с помощью компьютерной техники формируют геометрический рисунок топологии. Сложный процесс создания рисунка топологии разбивают на этапы. Эти этапы совпадают с последующими стадиями изготовления микроизделий: на одном этапе формируют затвор, на другом этапе формируют контактные окна, на третьем металлизацию и т.д. Этим этапам соответствуют различные шаблоны. Фотолитографический процесс включает следующие стадии. Сначала проводят нанесение фоточувствительной полимерной пленки (фоторезиста) на кремниевую пластину, сушку и последующее экспонирование пластины с определенным рисунком через фотошаблон с помощью ультрафиолетового облучения. После экспонирования пластину помещают в раствор, который проявляет изображение в фоточувствительном материале (фоторезисте). Затем пластину помещают в травитель. Травлению подвергаются поверхностные области, которые не защищены полимерной пленкой (фоторезистом) со сформированным на ней изображением.
Тезаурус
Литография (Lithography)
Тематический раздел (поле): Наноэлектроника; Наноинженерия; Метрология и стандартизация; Конструкционные наноматериалы; Функциональные наноматериалы; Композиционные наноматериалы; Нанотехнологии для безопасности; Нанотехнологии ТЭК
Функциональный разряд: Действие (операция)
Аскрипторы: Фотолитография, электронно-лучевая литография, рентгенолитография
Отношения иерархические (род-вид): Литография → Локальная модификация наноструктур→ Получение, диагностика и сертификация наноразмерных систем
Отношения ассоциативные: Литография ~ Шаблон, Фоторезист, Фотошаблон, Микроизделие, Световое излучение, Поток электронов, Нанотехнология
Литература по теме:
- McCord, M. A.; M. J. Rooks (2000). "2". SPIE Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication
- J. A. Liddle et al. (2003). "Resist Requirements and Limitations for Nanoscale Electron-Beam Patterning". Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 739 (19): 19–30
- H. Yang et al., Proceedings of the 1st IEEE Intl. Conf. on Nano/Micro Engineered and Molecular Systems, pp. 391-394 (2006)
|
