Фотолитография (англ. Photolithography) или оптическая литография – базовая «свет-шаблон-фоторезист» технология, используемая для получения микро- и нано- электронных устройств и микро и нано- системных устройств с определенными размерами и формами. Другое название – оптическая литография. Стандартная фотолитография проводится в спектральном диапазоне 310-450 нм с фактическим разрешением 1мкм. Непрерывное совершенствование технологического оборудования, фоторезистов, технологических приемов позволило с помощью фотолитографии получить размеры элементов, значительно меньше 1 мкм. Это обусловило подавляющий приоритет фотолитографии перед другими разновидностями литографических процессов. Основными методами фотолитографического экспонирования являются: контактный, бесконтактный (с зазором) и проекционный. Последний метод экспонирования (так называемая проекционная печать) позволяет полностью исключить повреждения поверхности фотошаблона. В большинстве современных проекционных систем печати оптические элементы являются настолько совершенными, что их характеристики точности отображения ограничены дифракционными эффектами, а не аберрацией линз. Эти устройства печати называют системами с дифракционным ограничением. Современные фотолитографические устройства используют глубокий ультрафиолет с длиной волны от 248 до 193 нм и позволяют получать топографические элементы с размерами до 50 нм. Иммерсионная литография с высокими индексами – последняя технологическая разработка, использующая длину волны 193 нм.

Тезаурус

Фотолитография / оптическая литография (Photolithography)

Тематический раздел (поле): Наноэлектроника; Наноинженерия; Метрология и стандартизация; Конструкционные наноматериалы; Функциональные наноматериалы; Композиционные наноматериалы

Функциональный разряд: Действие (операция)

Аскрипторы:  Литография, электронно-лучевая литография, рентгенолитография, иммерсионная литография

Отношения иерархические (род-вид):  Фотолитография → Литография → Локальная модификация наноструктур → Получение, диагностика и сертификация наноразмерных систем → Нанотехнологии

Отношения ассоциативные:  Фотолитография ~ Фоторезист, Фотошаблон, Планарные технологии, Микроизделие, Световое излучение, Нанотехнология, Травление, Экспозиция

Литература по теме:

1. McCord, M. A.; M. J. Rooks (2000). "2". SPIE Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication.
2. Jaeger, Richard C. (2002). "Lithography". Introduction to Microelectronic Fabrication.
3. Eli Yablonovitch, Rutger B. Vrijen, Optical projection lithography at half the Rayleigh resolution limit by two-photon exposure.