Проекционная литография

Проекционная литография (англ. Projection lithography) – технология проецирования топологического рисунка фотошаблона на платину с фоторезистом, которая расположена на расстоянии нескольких сантиметров от фотошаблона. Метод позволяет полностью исключить повреждения поверхности фотошаблона. Как и в стандартной фотолитографии, изображение передается на жидкий фотополимер, нанесенный на рабочую пластину. После этого на поверхности затвердевающего полимера подготавливается очередной слой жидкого фотополимера. Повторяя этот процесс, получают как бы многослойную, но все же объемную микроструктуру. Такой метод называется проекционной микростереолитографией. Существует еще метод проекционной микростереолитографии «с динамическим фотошаблоном», когда вместо реальных фотошаблонов используют генератор проекционных изображений, создаваемых с помощью жидкокристаллической матрицы. Применение генератора изображений вместо фотошаблонов позволяет значительно сократить время изготовления сложных 3D-микроизделий и существенно снизить стоимость их разработки и изготовления.

Тезаурус:

Проекционная литография (Projection lithography)

Тематический раздел (поле):  Наноэлектроника, Наноинженерия, Метрология и стандартизация, Конструкционные наноматериалы, Функциональные наноматериалы, Композиционные наноматериалы

Функциональный разряд: Действие/Технология

Аскрипторы:  фотолитография, электронно-лучевая литография, рентгенолитография, контактная литография

Отношения иерархические (род-вид):  Проекционная литография → Литография → Локальная модификация наноструктур → Получение, диагностика и сертификация наноразмерных систем

Отношения ассоциативные:  Проекционная литография ~ Шаблон, Фоторезист, Фотошаблон, Микроизделие, Световое излучение, Поток электронов, Травление

Литература по теме:

1.  McCord, M. A.; M. J. Rooks (2000). "2". SPIE Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication. 
2. J. A. Liddle et al. (2003). "Resist Requirements and Limitations for Nanoscale Electron-Beam Patterning". Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 739 (19): 19–30. 
3. H. Yang et al., Proceedings of the 1st IEEE Intl. Conf. on Nano/Micro Engineered and Molecular Systems, pp. 391-394 (2006).