Рентгенолитография

Рентгенолитография (англ. X-ray lithography) – очень быстрый литографический процесс, использующий рентгеновские лучи для засвечивания резиста. Рентгенолитография требует специальную маску (шаблон) и резист, чувствительный к рентгеновскому излучению. Рентгенолитография позволяет получать более высокое разрешение вследствие более короткой длины волны излучения. Используется в технлогии LIGA. Основная причина разработки рентгеновской литографии заключается в возможности получения высокого разрешения и высокой производительности оборудования. Типовая рентгеновская литографическая установка состоит из следующих основных узлов:

1. Кольцевая электронная пушка, сфокусированная на водоохлаждаемую палладиевую мишень, генерирует электронный пучок напряжением 25 кВ и мощностью 5-6 кВт. В результате этого мишень испускает рентгеновские лучи с длиной волны 0,437 нм, которые проходят через бериллиевое окно в камере экспонирования, заполненной гелием. Гелий предотвращает поглощение рентгеновских лучей воздухом.
2. Рентгеновские резисты, состоящие из поглощающего основного полимерного материала и полимеризуемой мономерной добавки, вводимой в структуру основного материала под воздействием рентгеновского излучения. Негативные рентгеновские резисты получают введением кремнийсодержащих металлоорганических мономеров в хлорированное полимерное поглощающее вещество.
3. Рентгеновские шаблоны, состоящие из поглощающих рентгеновское излучение металлических пленок (например, золото) и тонкой мембраны, пропускающей рентгеновские лучи. Для изготовления мембран используют такие материалы, как полиамид, Si, SiC, Si N и многослойные структуры Si N / SiO / Si N.

Тезаурус

Рантгенолитография (X-ray lithography)

Тематический раздел (поле):  Наноэлектроника; Наноинженерия; Метрология и стандартизация; Конструкционные наноматериалы; Функциональные наноматериалы; Композиционные наноматериалы

Функциональный разряд:  Действие (операция)

Аскрипторы:  Литография, электронно-лучевая литография, фотолитография, иммерсионная литография

Отношения иерархические (род-вид):  Рентгенолитография → Литография → Локальная модификация наноструктур → Получение, диагностика и сертификация наноразмерных систем → Нанотехнологии

Отношения ассоциативные:  Рентгенолитография ~ Электронная пушка, Рентгеновские лучи, Резист, Шаблон, Микроизделие, Нанотехнология

Литература по теме:

1. Y. Vladimirsky, "Lithography" in Vacuum Ultraviolet Spectroscopy II Eds. J.A.Samson and D.L.Ederer, Ch 10 pp 205-223, Academic Press (1998)
2. Аntony Bourdillon and Yuli Vladimirsky, X-ray Lithography on the Sweet Spot, UHRL, San Jose, (2006)
3. K.D. Vora, B.Y. Shew, E.C. Harvey, J.P. Hayes, A.G. Peele, Sidewall slopes of SU-8 HARMST using deep x-ray lithography, J. Micromech. Microeng., 18(3) (2008)
4. K.Early, M.L.Schattenberg and H.I.Smith, Absence of Resolution Degradation in X-ray Lithography, Microelectronic Engineering vol. 11, pp 317-321 (1990)
5. D. J. D. Carter, A. Pepin, M. R. Schweizer and H. I. Smith, Direct measurement of the effect of substrate photoelectrons in X-ray nanolithography, J. Vac. Sci. Tech. B. vol. 15, pp. 2509-2513 (1997)